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       EVG光刻機-EVG 620/610/6200NT 光刻系統(tǒng)

       技術(shù)指標：

       晶圓/基板尺寸達150 mm / 6''

       系統(tǒng)設(shè)計支持光刻工藝的多功能性

       易碎，薄或翹曲的多種尺寸的晶圓處理，更換時間短

       帶有間隔墊片的自動無接觸楔形補償序列

       自動原點功能，用于對準鍵居中

       具有實時偏移校正功能的動態(tài)對準功能

       支持UV-LED技術(shù)

       自動化系統(tǒng)上的手動基板裝載功能

       可以從半自動版本升級到全自動版本

       系統(tǒng)占地面積小

       多用戶概念（無限數(shù)量的用戶帳戶和程序，可分配的訪問權(quán)限，不同的用戶界面語言）

       軟件功能以及研發(fā)與全 面生產(chǎn)之間的兼容性

       便捷處理和轉(zhuǎn)換重組

       遠程技術(shù)支持和SECS / GEM兼容性

      曝光源：汞光源/紫外線LED光源

      對準功能：手動對準/原位對準驗證

       自動對準：動態(tài)對準/自動邊緣對準，對準偏移校正算法

       EVG620 NT產(chǎn)能：

       全自動：第 一批生產(chǎn)量：每小時180片

       全自動：吞吐量對準：每小時140片晶圓

       晶圓直徑（基板尺寸）：高達150毫米

       對準方式：

       上側(cè)對準：≤±0.5 μm

       底側(cè)對準：≤±1,0 μm

       紅外校準：≤±2,0 μm /具體取決于基材

       鍵對準：≤±2,0 μm

       NIL對準：≤±3.0 μm

       曝光設(shè)定： 真空接觸/硬接觸/軟接觸/接近模式/彎曲模式

      楔形補償：全自動軟件控制