厚光刻膠 正負光刻膠公司 正負光刻膠品牌 Futurrex
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商品參數(shù)
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商品介紹
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聯(lián)系方式
運輸方式 貨運及物流
可售賣地 全國
耐溫 150度
聚焦補償 -15μm
掩模尺寸 12μm
膜厚 54μm
縱橫比 4.5
光刻膠型號 NR5-8000
曝光能量 1100 mJ/cm22
報價方式 按實際訂單報價為準
產(chǎn)品編號 12585393
商品介紹
北京賽米萊德貿(mào)易有限公司主營:光刻膠




NR77-15000PY光刻膠光刻膠

光刻膠穩(wěn)定性

化學穩(wěn)定性:在正常儲存和操作條件下,在密閉容器中室溫穩(wěn)定。

避免的條件: 火源、濕氣、過熱的環(huán)境。

不相容的其他材料: 強氧化劑。

光刻膠毒理資料

淡黃色液體,氣味微弱。引起皮膚、眼睛、粘膜和呼吸道的刺激??梢酝ㄟ^皮膚吸收而引起全身性的癥狀。液體是可燃的。

毒性數(shù)據(jù)

皮膚:可以通過皮膚吸收而引起全身性的癥狀,類似于吸入。長時間或重復接觸可引起輕度至中度的刺激或皮炎。

眼睛:引起眼睛發(fā)炎。

吸入:吸入時可能有害。引起呼吸道刺激。蒸氣可能導致困倦和頭暈。

攝食:吞食有害。

延遲效應:肝和損害,以及動物實驗中有報道血液和GU髓有影響。


光刻膠市場空間

以下是賽米萊德為您一起分享的內(nèi)容,賽米萊德專業(yè)生產(chǎn)光刻膠,歡迎新老客戶蒞臨。

光刻膠市場空間與半導體的分不開。2012-2018年全球半導體市場規(guī)模復合增速8.23%,在全球半導體行業(yè)的快速發(fā)展下,全球半導體光刻膠市場持續(xù)增長。

而國內(nèi)市場,因全球半導體、液晶面板以及消費電子等產(chǎn)業(yè)向國內(nèi)轉移,對光刻膠需求量迅速增量。

但是遠遠不夠,從全球光刻膠的市場競爭格局來看,光刻膠市場主要由日韓企業(yè)主導,國內(nèi)企業(yè)市場份額集中在低端的PCB光刻膠上,高技術壁壘的LCD 和半導體光刻膠主要依賴進口。根據(jù)某些數(shù)據(jù)顯示,國內(nèi)光刻膠產(chǎn)值當中,PCB光刻膠的占比高達95%,半導體光刻膠和LCD光刻膠產(chǎn)值占比都僅有2%。

由上分析可知,我國目前在光刻膠領域急需技術突破的。



光刻膠的核心參數(shù)是什么?

分辨率、對比度和敏感度是光刻膠的核心技術參數(shù)。隨著集成電路的發(fā)展,芯片制造特征尺寸越來越小,對光刻膠的要求也越來越高。光刻膠的核心技術參數(shù)包括分辨率、對比度和敏感度等。為了滿足集成電路發(fā)展的需要,光刻膠朝著高分辨率、高對比度以及高敏感度等方向發(fā)展。

以上就是為大家介紹的全部內(nèi)容,希望對大家有所幫助。如果您想要了解更多光刻膠的知識,歡迎撥打圖片上的熱線聯(lián)系我們。



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