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在制作鋁蝕刻標牌中,表面拋光怎樣才不傷到底色

1）蝕刻深度不能太淺；

2）填的漆料不能太稠，不能失去流動性。太稠的油漆容易高出牌面，更容易被拋光傷及。

3）填漆后再拋光，要用烤漆，如氨基烘漆（烘烤115－125度），也可用加固化劑的漆。普通硝基漆最易拋掉。

4）填漆后要有足夠的干燥固化時間。

5）拋光時用力要均勻，盡量不要橫向豎向亂拋。

6）還有一個非常有效的方法就是預先拋光。一次拋得就比較亮了，在網(wǎng)印、腐蝕、清洗、填漆過程再稍加注意不要劃傷版面，那么最后一次拋光就容易得多。一些精檔的金屬填漆標牌都要拋兩遍光。

一般的比重應控制在 18~240Be。溶液 PH 值的影響

蝕刻液的 PH 值應保持在 8.0~8.8 之間。 若 PH 值下降到 8.0 以下時, 將會對金屬抗 蝕層不利。 另一方面﹐蝕刻液中的銅不能被完全絡合成銅氨絡離子﹐使溶液在槽底形成泥 狀沈淀, 而這些沈淀物能在加熱器上結(jié)成硬皮﹐可能會損壞加熱器﹐還會使泵和噴嘴受到 堵塞﹐給蝕刻造成困難。材質(zhì)：不銹鋼蝕刻標牌顧名思義使用的材料是不銹鋼，因其外觀呈光亮的微灰色或銀白色。 如果溶液 PH 值過高﹐蝕刻液中的氨過飽和﹐游離氨便會釋放到大 氣之中﹐導致環(huán)境污染。 再說﹐溶液的 PH 值增大也會增大側(cè)蝕的程度﹐繼而影響蝕刻的精 度。

光刻和蝕刻技術(shù)，用光膠、掩膜、和紫外光進行微制造，由薄膜沉積，光刻和蝕刻 三個工序組成。 ? 光刻前首先要在基片表面覆蓋一層薄膜，薄膜的厚度為數(shù)埃到幾十微米，稱為薄膜 沉積。然后在薄膜表面用甩膠機均勻地覆蓋上一層光膠，將掩膜上微流控芯片設計 圖案通過曝光成像的原理轉(zhuǎn)移到光膠層的工藝過程稱為光刻。 ? 光刻的質(zhì)量則取決于光抗蝕劑（有正負之分）和光刻掩膜版的質(zhì)量。2、這些金屬銘牌蝕刻技術(shù)方面的書籍近幾年倒是出過幾本，但書里列舉的加工配方和工藝都是學校里教學的風格，不切合實際生產(chǎn)情況。掩膜的基本功 能是基片受到光束照射（如紫外光）時，在圖形區(qū)和非圖形區(qū)產(chǎn)生不同的光吸收和 透過能力。