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貴金屬靶材尺寸

金、銀、鉑、鈀濺射靶材通過熔煉提純、澆鑄成錠，鍛造軋制和精密機加工制造而成。純度均可達到99.99%，主要應用于電子半導體、太陽能光伏、平面顯示、磁學等行業(yè)。

釕、銠、銥濺射靶材采用高純金屬粉末為原料，通過粉末冶金鑄錠，并精密機加工成靶，產(chǎn)品純度可達99.95%。主要應用于電子半導體、磁學等行業(yè)。

常規(guī)靶材有：

高純金 靶材 99.99%φ50.8mm, φ60mm, φ101.6mm

高純銀 靶材 99.99%φ50.8mm, φ60mm, φ101.6mm

高純鉑 靶材 99.99%φ50.8mm, φ60mm, φ101.6mm

高純鈀 靶材 99.99%φ50.8mm, φ60mm,  φ101.6mm

高純釕 靶材 99.95%φ50.8mm, φ60mm, φ101.6mm

高純銠 靶材 99.95%φ50.8mm, φ60mm,  φ101.6mm

高純銥 靶材 99.95%φ50.8mm, φ60mm,  φ101.6mm

常規(guī)厚度1-6mm

可定制加工的圓靶方靶，可提供靶材綁定服務。

我們可以提供的半導體材料領(lǐng)域5N-7N的高純及超高純材料，這些材料廣泛用于半導體材料，高純合金，紅外材料，太陽能電池材料的制備。

常規(guī)產(chǎn)品明細如下：

高純銻 Sb 5N-7N 晶體顆粒

高純鉍 Bi 5N 6N 顆粒 粉末

高純鎘 Cd 5N-7N 顆粒 錠 粉末 片狀

高純銅 Cu 5N 6N 顆粒

高純銦 In 5N-7N 顆粒 錠 粉末

高純磷 P 5N 6N 塊狀

高純鉛 Pb 5N-7N 顆粒 粉末

高純硒 Se 5N-6N 顆粒 錠 粉末

高純碲 Te 5N-7N 顆粒 粉末

高純硫 S 5N 6N 粉末 塊狀

高純錫 Sn 5N 6N 顆粒 錠

高純鋅 Zn 5N 6N 顆粒 錠 棒

中諾新材研發(fā)介紹：

1. 研發(fā)種類：各種比例的金屬合金、各種比例的陶瓷化合物摻雜、二元混合，三元混合，四元混合等多元混合材料。

2. 研發(fā)材料規(guī)格：靶材（圓靶 平面靶 旋轉(zhuǎn)靶 異形靶）、顆粒、圓柱、絲、棒、粉末、錠塊，可根據(jù)客戶要求。

3，研發(fā)設備：

1. 真空中、高頻熔煉爐

2. 真空懸浮熔煉爐

3. 真空電弧熔煉爐

4. 真空熱壓爐

5. 真空燒結(jié)爐

6. 氣氛燒結(jié)爐

7. 區(qū)熔提純設備

8. 真空蒸餾設備

9. 進口全套機械加工設備